皮膜特性一覧
  無電解Ni-P 無電解Ni-B 電気Ni
成分 Ni(90〜92%)、P(8〜10%) Ni(97〜99.7%)、B(0.3〜3%) Ni(99.5%)
組織 非結晶性(熱により結晶化) 微結晶性 微結晶性
融点 890℃ 1,400℃ 1,450℃
電気抵抗 64μΩ/cm(熱により低下) 5〜5μΩ/cm 8〜9μΩ/cm
熱膨張係数 13〜14.5μm/m/℃ 12μm/m/℃ 14〜17μm/m/℃
比重 7.9 8.6 7.7
硬度 Hv400〜500(めっき後)
Hv900〜1,000(熱処理後)
Hv700〜800 Hv150〜250(普通浴)
Hv400〜500(光沢浴)
応力 圧縮 引っ張り 引っ張り
磁気特性 非磁性
(熱処理により磁性化)
強磁性 強磁性
均一析出性 ±5%以下 ±5%以下 不定(形状に左右される)
めっき速度 15〜20μm/hr 6〜7μm/hr 2A/duで25μm/hr
はんだ付け性 析出時    1.8sec
エージング後 濡れない
1.5sec
2.0sec
高度酸化性 350℃、30min リミット 500℃、30min リミット
耐食性 電気Niより優れている Ni-Pより劣る Ni-Pより劣る
(添加剤により変化する)
耐薬品性 非常によい 普通 普通
(添加剤により変化する)
作業温度 90℃ 65℃ 45〜55℃
コスト比 6〜8 0.1


   *薬品の種類により、表と異なる特性の皮膜を得ることができます。


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